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系統識別號 U0002-1407202422575300
DOI 10.6846/tku202400512
論文名稱(中文) 半導體廠高導電度含氟廢水製程改善
論文名稱(英文) Optimizing the Treatment Process for High-Conductivity Fluorine-Containing Wastewater in Semiconductor Manufacturing Factory
第三語言論文名稱
校院名稱 淡江大學
系所名稱(中文) 化學工程與材料工程學系碩士班
系所名稱(英文) Department of Chemical and Materials Engineering
外國學位學校名稱
外國學位學院名稱
外國學位研究所名稱
學年度 112
學期 2
出版年 113
研究生(中文) 王韋翔
研究生(英文) Wei-Hsiang Wang
學號 611400440
學位類別 碩士
語言別 繁體中文
第二語言別
口試日期 2024-06-25
論文頁數 77頁
口試委員 口試委員 - 許詩韓(shrhan@megaunion.com.tw)
指導教授 - 鄭東文(twcheng@mail.tku.edu.tw)
口試委員 - 黃招財
共同指導教授 - 王儀雯(ywwangi@mail.tku.edu.tw)
關鍵字(中) 含氟廢水
污泥迴流
氟化鈣
化學混凝沉澱
加藥減量
降低導電度
關鍵字(英) Fluoride-containing wastewater
sludge recirculation
calcium fluoride
chemical coagulation and precipitation
dose reduction
reduce conductivity
第三語言關鍵字
學科別分類
第三語言摘要
論文目次
目錄
誌謝	I
中文摘要	II
英文摘要	III
目錄	V
圖目錄	VIII
表目錄	X
實習機構簡介	XI
實習內容概述	XIV
實習心得與自我期許	XVI
第一章 緒論	1
1.1 研究緣起	1
1.2 研究動機	3
1.3 研究目的	4
第二章 文獻回顧	5
2.1 半導體產業介紹	5
2.1.1半導體發展沿革	5
2.1.2半導體特性及種類	8
2.1.3半導體製造流程	13
2.1.4半導體製程廢棄物	16

2.2 氟化物性質及污染危害	18
2.2.1 氟化物基本性質及來源	18
2.2.2 氟化物對人體及環境的危害	20
2.3 半導體業含氟廢水性質及處理技術	21
2.3.1 半導體業含氟廢水特性及來源	21
2.3.2 半導體業含氟廢水處理現況	23
2.3.3 半導體業含氟廢水處理技術	25
2.4 污泥迴流	28
2.4.1 污泥迴流技術	28
2.4.2 污泥迴流反應機制	29
2.4.3 污泥迴流特性及影響要素	32
第三章 研究方法與實驗材料	34
3.1 實驗材料及藥品	34
3.1.1 實驗廢水來源	34
3.1.2 實驗藥品	34
3.2 實驗裝置	36
3.3 實驗項目及步驟	38
3.3.1 含氟廢水與污泥漿液水質分析	39
3.3.2 最佳污泥漿液迴流量試驗	40
3.3.3 最佳迴流位置試驗	41
3.3.4 污泥漿液影響要素試驗	42
3.3.5 最佳污泥漿液固含量試驗	43
第四章 結果與討論	44
4.1 含氟廢水與污泥漿液特性	44
4.2 污泥漿液迴流最適條件	46
4.2.1	最佳污泥漿液迴流量試驗	46
4.2.2	最佳迴流位置試驗	53
4.2.3 污泥迴流影響要素試驗	58
4.2.4 最佳污泥漿液固含量試驗	63
4.3 實廠污泥迴流可行性評估	68
第五章 結論與建議	70
5.1結論	70
5.2建議	71
參考資料	72
附錄	77

 
圖目錄
圖1 兆聯公司理念	XI
圖2 純水、回收、廢水系統工程	XI
圖3 兆聯國內實績	XII
圖4 兆聯實業股份有限公司全球據點	XII
圖5 實習工作項目	XV
圖6 實習參與相關活動	XV
圖7 全球半導體晶圓代工廠商市佔率	2
圖8 污泥漿液迴流示意圖	4
圖9 半導體產品種類概覽	7
圖10 導體、半導體及絕緣體在室溫下的電阻率及電導率	9
圖11 導體、半導體及絕緣體電子能帶差別	10
圖12半導體製造分類及範疇	14
圖13 半導體製造流程	15
圖14 氫氟酸解離各物質濃度	19
圖15 氟系廢水處理程序	23
圖16 實驗架構	38
圖17 最佳污泥漿液迴流量試驗流程圖	40
圖18 最佳迴流位置試驗流程圖	41
圖19 污泥漿液組成示意圖	42
圖20 污泥漿液影響要素試驗流程圖	42
圖21 最佳污泥漿液固含量試驗流程圖	43
圖22 不同迴流比下各藥劑添加量	48
圖23 不同初始氟濃度下殘餘鈣、氟離子濃度	48
圖24不同迴流比下水中鈣、氯離子殘餘濃度	49
圖25不同迴流比下導電度變化	50
圖26不同迴流比下污泥含水率變化	51
圖27不同迴流位置下各藥劑添加量	54
圖28不同迴流位置下水中鈣、氯離子殘餘濃度	55
圖29不同迴流位置下導電度變化	56
圖30不同迴流位置下污泥含水率變化	57
圖31不同迴流項下各藥劑添加量	59
圖32不同迴流項下水中鈣、氯離子殘餘濃度	60
圖33 不同迴流項下導電度變化	61
圖34 不同迴流項下污泥含水率變化	62
圖35 不同污泥漿液固含量下各藥劑添加量	64
圖36 不同污泥漿液固含量下水中鈣、氯離子殘餘濃度	65
圖37不同污泥漿液固含量下之導電度變化	66
圖38 不同污泥漿液固含量下污泥含水率變化	67
圖39 含氟廢水樣貌	77
圖40 污泥漿液靜置前後對比	77

 
表目錄
表1 兆聯實業股份有限公司歷史沿革	XIII
表2半導體材料相關之元素週期表	9
表3半導體世代差異	12
表4 鈣鹽比較表	24
表5 各種去氟方法之優缺點比較	27
表6 鈣離子與常見陰離子反應物之Ksp	30
表7 預混合後實廠含氟廢水與污泥漿液分析	45

參考文獻
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