淡江大學覺生紀念圖書館 (TKU Library)
進階搜尋


下載電子全文限經由淡江IP使用) 
系統識別號 U0002-2806200516284000
中文論文名稱 溶膠凝膠法製備紫外光硬化型抗反射鍍膜
英文論文名稱 Preparation of UV-curable antireflective coatings by sol-gel process
校院名稱 淡江大學
系所名稱(中) 化學工程與材料工程學系碩士班
系所名稱(英) Department of Chemical and Materials Engineering
學年度 93
學期 2
出版年 94
研究生中文姓名 黃逢璽
研究生英文姓名 Feng-His Huang
學號 692361164
學位類別 碩士
語文別 中文
口試日期 2005-05-24
論文頁數 136頁
口試委員 指導教授-陳慶鐘
共同指導教授-鄭廖平
委員-陳信龍
中文關鍵字 溶膠凝膠法  混成材料  旋轉塗佈  紫外光硬化  抗反射鍍膜 
英文關鍵字 sol-gel process  organic-inorganic hybrid  spin coating  UV-curing  antireflective coatings 
學科別分類
中文摘要 在本研究中的無機單體為四丁氧基鈦TBOT、四乙氧基矽TEOS,有機偶合劑為MSMA、GPTMS,透過溶膠凝膠製程,將TBOT與GPTMS合成高折射率薄膜, TEOS與MSMA合成低折射率薄膜,探討不同無機含量對折射率的影響。並研究旋轉塗佈的轉速及無機物濃度對於膜厚的影響,最後經由電腦輔助模擬來設計出抗反射效果最佳之薄膜厚度與折射率等操作參數。
本研究針對其中無機成分的添加比例,探討其對混成材料之光學性質、熱性質及形態學之影響;並以光干涉原理設計抗反射膜,模擬膜厚及折射率對光干涉現象的影響,進而將模擬結果用於實際鍍膜,比較理論鍍膜與實際鍍膜之光學性質差異,藉以改善鍍膜製程。
結果部分,提高SiO2的添加量,混成薄膜的折射率也隨之降低,由1.53降至1.49。而提高TiO2的添加量,混成薄膜的折射率也隨之升高,由1.6提升至1.75。不同厚度的折射率差異很小,故薄膜在可見光範圍內吸收度很小。探討固成份及轉速與厚度的關係,發現膜厚與固成分成正比而與轉速成反比,且固成分對膜厚影響較大而轉速影響較小,以此控制模厚。接著,將光的干涉效應向量化,即可以數值方法模擬反射率,得到有效的塗佈厚度與折射率,再配合厚度及折射率的控制技術進行鍍膜。利用預烤及後烤改善紫外光硬化薄膜的熱性質,SiO2溶膠及TiO2溶膠分別以80 ℃及90 ℃預烤1分鐘可改善紫外光硬化效率,硬化後之薄膜以200 ℃後烤15分鐘可大幅改善材料熱性質。經過上述製程探討,成功製備雙層抗反射薄膜,光波長550nm左右之折射率約為1%,已達到可見光抗反射效果。
英文摘要 Antireflective coatings produced from sol-gel techniques have received extensive interest recently. Such hybrid materials are used to synthesize new electronic and optical materials.
In this investigation, we prepare organic-inorganic hybrid sol by sol-gel process and synthesize the Poly(MSMA-SiO2) and Poly(GPTMS-TiO2) using UV-curing. The organic monomers were γ-Glycidoxy propyl trimethoxysilane (GPTMS), and 3-(trimethoxysilyl) propyl methacrylate (MSMA); inorganic monomers for the preparation were Tetrabutoxyltitanium (TBOT), and tetraethoxysilane (TEOS). The effects of the ratio of inorganic material on the morphology and optical properties of the composites were investigated. We added the photosensitive monomers, photoinitiator, and other additives to the composites to prepare antireflective coatings. Furthermore, FTIR was employed to investigated the evolution of chemical bonds between component molecules at polymerization and sol-gel process. TEM, and FESEM were used to find out the effects of the size and distribution of inorganic particles of the composite on the physical properties of the sols, and thin film. TGA was used to measure the degradation temperature respectively, and find out the effects of post bake. The optical properties were measured by n&k.
The experimental results showed that refractive index decreasing with increasing weight ratio of SiO2 and increasing with increasing weight ratio of TiO2. The thickness of hybrid films was varied from 100nm to 70nm by the solid content of hybrid sols and frequency of spin coating. Therefore, we can control the reflection by controlling the refractive index and thickness of thin film. The thermal stability of the prepared hybrid films increased with post bake for 15 mins at 200oC. Finally we obtained the antireflective coatings which had low reflection (1% at wavelength 550nm) at visible range.
論文目次 總目錄

第一章 序 論 1
1-1 前言 1
1-2 研究動機 3
1-3 研究目標 4
第二章 理論與文獻回顧 6
2-1 溶膠-凝膠法 6
2-1.1 簡介 6
2-1.2 溶膠-凝膠製程 7
2-1.3 溶膠-凝膠法之優缺點 15
2-2 有機-無機奈米複合材料 17
2-2.1 簡介 17
2-2.2 有機-無機混成材料之設計 19
2-2.3 有機-無機混成材料之合成 20
2-2.4 有機-無機混成材料之應用 25
2-3 感光性高分子 27
2-3.1簡介 27
2-3.2 光化學反應概念 27
2-3.3 光的特性與光架橋反應 29
2-4 紫外光硬化技術 32
2-4.1 簡介 32
2-4.2 紫外光硬化概念 33
2-4.3 自由基型光硬化塗料 37
2-4.4 陽離子型光硬化塗料 43
2-4.5 紫外光硬化塗料的優缺點 49
2-5 薄膜塗佈技術 50
2-5.1 簡介 50
2-5.2 旋轉塗佈之基本理論 52
2-5.3 旋轉塗佈之理論模擬 55
2-6 抗反射膜製作技術 59
2-6.1 簡介 59
2-6.2 抗反射膜的基本設計 60
2-6.3 抗反射膜的製備 66
第三章 實驗 70
3-1 實驗藥品 70
3-2 實驗儀器 72
3-3 實驗方法與流程 74
3-3.1 研究大綱 74
3-3.2 低折射率薄膜合成 76
3-3.3 高折射率薄膜合成 79
3-3.4 雙層抗反射膜之塗佈厚度探討 82
3-3.5紫外光硬化效率探討 82
3-4 物化性分析與鑑定 84
3-4.1 結構之鑑定 84
3-4.2 熱性質分析 84
3-4.3 薄膜形態學之研究與奈米顆粒之鑑定 84
3-4.4 光學性質測試 85
第四章 結果與討論 86
4-1 傅氏紅外線吸收光譜(FTIR)之鑑定與分析 86
4-1.1 低反射率薄膜合成之定性分析 86
4-1.2 高反射率薄膜合成之定性分析 95
4-2熱重損失分析 (TGA) 103
4-2.1 低折射薄膜之熱重損失分析 103
4-2.2 高折射薄膜之熱重損失分析 106
4-3 膜厚與折射率之探討 110
4-3.1 旋轉塗佈之膜厚控制探討 110
4-3.2 混成材料之折射率探討 114
4-4 形態學之研究與奈米顆粒之鑑定 116
4-4.1 膠體溶液之粒徑分析 116
4-4.2 膠體溶液之TEM及SEM觀測 119
4-5 抗反射塗佈之光學模擬與實際製作 125
4-5.1 抗反射塗佈之光學模擬 125
4-5.2 抗反射塗佈 128
第五章 結論 129
第六章 參考文獻 131



圖目錄

圖2-1 PH值與凝膠時間之關係 9
圖2-2 H:水解C:縮合D:溶解之關係 11
圖2-3 各種催化劑對凝膠時間的關係 12
圖2-4 材料應用之四大領域 18
圖2-5 有機-無機混成材料製程路徑 22
圖2-6 光化學反應概念圖 28
圖2-7 二原子分子的位能曲線與電子遷移 29
圖2-8 光的波長及能量範圍 30
圖2-9 光架橋反應示意圖 31
圖2-10 自由基光起始與光聚合反應機制 38
圖2-11 Norrish Type的裂解形式 40
圖2-12 陽離子光起始劑的各種應用 43
圖2-13 不同碳數環氧基室溫反應速率 46
圖2-14 典型環氧樹脂之光起始反應及交聯反應機制 48
圖2-15 溶膠凝膠塗佈技術各種影響參數ㄧ覽 50
圖2-16 旋轉塗佈四個階段 52
圖2-17 旋轉塗佈之成膜機制 54
圖2-18 非均質多層抗反射膜光路示意圖 60
圖2-19 光干涉效應示意圖 63
圖2-20 四層光學塗佈之光路示意圖 64
圖2-21 四層抗反射塗佈不同角度入射下模擬之平均反射率 65
圖2-22 不同製程之產品抗反射效果比較 69
圖3-1 SiO2低折射率薄膜之化學反應示意圖 77
圖3-2 SiO2低折射率薄膜製作及測試流程示意圖 78
圖3-3 TiO2高折射率薄膜之化學反應示意圖 80
圖3-4 TiO2高折射率薄膜製作及測試流程示意圖 81
圖3-5 紫外光硬化塗料製備之流程示意圖 83
圖4-1 TEOS MSMA 單體之FTIR圖譜 87
圖4-2 TEOS及MSMA水解縮合前後之FTIR圖譜 88
圖4-3 M1S2水解縮合時間點取樣之FTIR圖 89
圖4-4 不同TEOS添加量之FTIR光譜圖 90
圖4-5 不同預烤時間配合紫外線硬化處理之FTIR圖譜 91
圖4-6 不同預烤時間配合紫外線硬化處理之FTIR圖譜 92
圖4-7 不同預烤時間配合紫外線硬化處理之FTIR圖譜 93
圖4-8 TBOT及GPTMS單體FTIR光譜 95
圖4-9 TBOT與GPTMS反應前後FTIR光譜 96
圖4-10 G1T3水解縮合隨時間點取樣光譜 97
圖4-11 TBOT及GPTMS水解縮合隨時間點取樣光譜 98
圖4-12 TBOT及GPTMS水解縮合隨時間點取樣光譜 99
圖4-13 TBOT不同添加比反應後光譜圖 100
圖4-14 不同預烤時間配合紫外線硬化處理之FTIR圖譜 101
圖4-15 不同比例TEOS添加之TGA測試 104
圖4-16 M1S7之DTA曲線 105
圖4-17 200℃後烤15分鐘前後之TGA比較 106
圖4-18 不同TBOT添加比例之TGA圖 107
圖4-19 G1T5之DTA圖 108
圖4-20 G1T5經200℃15分鐘後烤前後之TGA比較 109
圖4-21 M1S7塗佈轉速及固成分與厚度關係 111
圖4-22 M1S7之固成分與厚度關係 112
圖4-23 G1T5旋轉速率與厚度關係 113
圖4-24 G1T5固成分與厚度關係 113
圖4-25 SiO2含量與折射率關係 115
圖4-26 TiO2含量與折射率關係 115
圖4-27 M1S7溶膠粒子粒徑大小及分布 117
圖4-28 M1S2溶膠粒子粒徑大小及分布 118
圖4-29 G1T5溶膠粒子粒徑大小及分布 118
圖4-30 G1T3溶膠粒子粒徑大小及分布 118
圖4-31 G1T5溶膠TEM 120
圖4-32 M1S7薄膜表面之SEM影像 121
圖4-33 M1S7薄膜表面之SEM影像 121
圖4-34 G1T5薄膜表面之SEM影像 122
圖4-35 G1T5薄膜表面之SEM影像 122
圖4-36 M1S7薄膜截面之SEM影像 123
圖4-37 M1S7薄膜截面之SEM影像 123
圖4-38 G1T5薄膜截面之SEM影像 124
圖4-39 G1T5薄膜截面之SEM影像 124
圖4-40 不同膜厚組合與可見光區反射率的關係 126
圖4-41 不同膜厚組合與可見光區反射率的關係 126
圖4-42 不同折射率差異與反射率之關係 127
圖4-43 不同折射率差異與反射率之關係 127
圖4-44 雙層抗反射膜於可見光區之反射率曲線 128



表目錄

表2-1 溶膠-凝膠法製備有機-無機混成材料之優點 16
表2-2 溶膠-凝膠法製備有機-無機混成材料之缺點 16
表2-3 有機-無機混成材料所使用之寡聚物及高分子 21
表2-4 常見偶合劑整理 26
表2-5 偶合劑及Colloidal silica混成光學薄膜之製備方式.........….24
表2-6 高分子與金屬氧化物之性質差異 26
表2-7 UV Curing 與 Heat Curing之比較 33
表2-8 紫外光硬化材料的基本組成及其功能 34
表2-9自由基硬化及陽離子硬化反應之比較 35
表2-10 單體之官能度和分子量對硬化膜性質影響 36
表2- 11單體化學結構對硬化膜性質影響 36
表2-12為常用預聚物之結構與性能對照表 37
表2-13 商業上常見之光起始劑與生產公司 41
表2-14 一般紫外光硬化塗膜之有機單體 42
表2-15 主要常見的三類陽離子型起始劑 44
表2-16 不同塗佈技術應用的膜厚範圍與其均勻度 51
表2-17 抗反射膜不同製程特點與產品價值比較 68
表2-18 不同製程之產品物性比較 69
表3-1 SiO2溶膠試藥組成 75
表3-2 TiO2溶膠試藥組成 75
表3-3 低折射率薄膜試藥組成與SiO2含量 76
表3-4 高折射率薄膜試藥組成與TiO2含量 79
表4-1 TEOS與MSMA水解縮合反應之特性峰 94
表4-2 壓克力酯類相關性特性峰............................................93
表4-3 TBOT與GPTMS水解縮合反應之特性峰 102
表4-4 無機物含量之理論計算與熱處理後薄膜殘餘重量 104
表4-5 無機物含量之理論計算與熱處理後薄膜殘餘重量 108

參考文獻 第六章 參考文獻

1. H. D. Wolpert, a close Look at Optical Plastics, Photonics Spectra, 68, February (1983).
2. 蔡政哲,溶膠-凝膠法製備光學材料之研究,國立清華大學碩士論文,2000。
3. Ebelmen H., Ann. Chim. Phys., 15 (1845) 319.
4. T.Graham, J.chem. Soc., 17 (1864) 318-327.
5. W. Geffcken and E. Berger, German Patent 736 411 (May 1939)
6. R. Roy, J. Am. Ceram. Soc., 4 (1956) 145-146.
7. R. Roy, J. Am. Ceram. Soc., 6 (1969) 344.
8. H. Schroeder, Phys. Thin Films, 5 (1969) 87-141.
9. I.M. Thomas and L. Levene, U.S. Patent 3640093 (February 8, 1972)
10. H. Dislich, Angewandt Chemie, 10(6) (1971) 363-370.
11. R.K. Iler, The chemistry of silica, Wiley-Inter Science, (1979)
12. 田佩、周禮君,有機無機混成溶凝膠及其應用,強塑廣用新知,86,2001。
13. 陳文章、劉韋志,以溶凝膠法(Sol-Gel Process)製備有機/無機混成(Hybrid)材料,化工,第46卷,第5期,1999。
14. C.J. Brinker, J. Non-Crystalline Solids, 100 (1988) 30-51.
15. C. J. Brinker, G. W. Scherer, Sol-gel Science, Academic Press, (1990).
16. C. Sanchez and F. Ribot, New J. Chem., 18 (1994) 1007.
17. J. Wen and G. L. Wilkes, Chem. Mater., 8(8) (1996) 1667-1681.
18. Schmidt and B. Seiferling, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 73 (1986) 739.
19. Bradley, R. C. Mehrotra, and D. P. Gaur, Metal Alkoxides, Academic: London (1987).
20. Kotfera, M.; Nishino, T. and Nakamae, K., Polymer, 41 (2000) 3615.
21. R. Aelion, A. Loebel, F. Eirich, J. Am. Chem. Soc., 72 (1950) 5705.
22. B. E. Yoldas, J. Non-Cryst. Solid., 51 (1982) 105.
23. B. E. Yoldas, J. Mater. Sci., 14 (1979) 1834.
24. T. N. M. Bernards, M. J. van Bommel, A. H. Boonstra, J. Non-Crystalline Solids, 134, 1-13 (1991)
25. Yostry A. Attia, Sol-Gel Processing and Application, Plenum Press, New York, 1994.
26. H. R. Allcock, Adv. Mater., 6(2) (1994) 106-115.
27. T. Saegusa, Pure and Appl. Chem., 67 (1995) 1965.
28. K.H. Haas, Advanced Engineering Materials, 2(9) (2000).
29. L. Matejka, O. Dukh, and J. Kolarik, Polymer, 41 (2000) 1454-1455.
30. P. Hajji, L. David, J. F. Gerard, J. P. Pascault, G. Vigier, Journal of Polymer Science, Part B: Polymer physics, 37 (1999) 3172.
31. H. Schmidt, J. Non-Cryst. Solid., 73 (1985) 681.
32. G. L. Wilkes, B. Orler, H. Huang, Polym. Prepr., 26 (1985) 300.
33. Sanchez, C.; Soler-Illia, G. J. de A. A.; Ribot, F.; Lalot, T.; Mayer, C. R.; Cabuil, V. Chem. Mater., 13 (2001) 3061.
34. R. W. Jones, Fundamental principle of sol-gel technology, The Institute of Metals (1989).
35. G. L. Wilkes, H. H. Huang and R. H. Glaser, Silicon-Based Polymer Science: A Comprehensive Resource, Advances in Chem. Ser. 224, American Chemical Society: Washington D. C., 207, (1990).
36. H. H. Huang, B. Orler, and G. L. Wilkes., Macromolecules, 20 (1987) 1322-1330.
37. Y. Wei, W. Wang, D. Yang, and L. Tang, Chem. Mater, 6(10) (1994) 1737-1741.
38. Wen-Chang Chen and Shu-Jen Lee, Polymer Journal, 32(1) (2000) 67-72.
39. 李淑珍,有機-無機混成光學薄膜之製備及其特性研究,國立台灣大學碩士論文,1999。
40. S. F. Nara, and K. N. Fushimi, US patent 5354497 (1994).
41. G. F. Methford and B. Lake, US patent 5607729 (1997).
42. D. R. Olson and K. K. Webb, US patent 4455205 (1984).
43. L. J. Cottington and M. County, US patent 4973612 (1990).
44. A. R. Saginaw and L. J. Cottington, US patent 5126394 (1992).
45. L. Chu, M. W. Daneiels, and L.F. Francis, Chem. Mater., 9 (1997) 2577-2582.
46. M. W. Daniels and L. F. Francis, J. Colloidal Interface Sci., 205 (1998) 191-200.
47. A. Morikawa, Y. Iyoku, M. Kakimoto and Y. Imai, J. Mater. Chem., 2(7) (1992) 679-690.
48. Roffer, C. G., “Photopolymerization of surface coating”, John Wiley & SonsInc., New York , 1982.
49. 劉瑞祥,感光性高分子,復文書局,2002。
50. A. V. Rami Reddy, K. Subramanian, V. Krishnasamy, and J. Ravichandran, Eur. Polym. J., 32(8) (1996) 919-926.
51. R. D. Alien, G. M. Wallraff, and W. D. Hindberg, J. Vac. Sci. Technol. Part B, 9(6) (1991) 3357-3361.
52. 陳劉旺,工業塗料與高分子化學,高立圖書有限公司,1997。
53. 江得海,紫外光固化材料-理論與應用,科學出版社,2001。
54. 劉建良,UV Curing發展簡介與應用,化工科技與商機,第41期特別報導,2001。
55. 居學成、哈鴻飛,輻射固化通訊,5 (1997) 17。
56. 劉廣容、洪嘯吟,輻射固化通訊,1 (1998) 1。
57. Uminski, M. and Saija L.M. Surface Coatings International, 6 (1995) 244.
58. 張豐志,應用高分子手冊,五南出版社,2003。
59. Y.C. Lai, J. Appl. Polymer sci, 56(301) (1995) 148-149.
60. Smity, G.H. U.S. 3741765 (3M Company) June 26, 1973.
61. J.P. Fouassier in Photoinitiation, Photopolymerization and Photo curing (Munich venna, New York 1995).
62. 黃棟材,紫外光硬化環氧樹脂,輔仁大學化學研究所碩士論文,1984。
63. J.V. Crivello, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 151 (1999) 8-21.
64. Belgian Patent 828669 Sept. 1, 1975.
65. Belgian Patent 828841 Nov. 7, 1975.
66. Belgian Patent 837738 July 22, 1976.
67. J.V. Crivello, J.H.W. Lam, J. Polym. Sci. Symposium, 56 (1976) 1-11.
68. J.V. Crivello, J.H.W. Lam, Macromolecules, 10(6) (1977).
69. J.V. Crivello, U.S. Patent 3981897, Sept. 21, 1976.
70. Crivello,J. Application of phototinitiated cationic polymerization in coatings. Journal of Coatings Technology, 63(793) (1991) 35-38.
71. Crivello,J.V.; Lee,J. Alkoxy-substituted diaryliodonium slat cationic photoinitiators. Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, 27 (1989) 3951-3968.
72. Crivello,J. Ultravolet and electron Beam-induced cationic polymerization. Nuclear Instruments and Methods in Phsics Research B. 151 (1998) 8-21.
73. 郭文法,工業材料,第125期,1997。
74. Crivello,J.V.; Schroeter,S. Patent US4026705 (1997).
75. Ciba 公司產品介紹。
76. S. Sakka and T. Yoko, Structure and Bonding , 77 (1992) 90.
77. J.D. Mackenzie E.P. Bescher J. Sol-Gel Science and Technology, 19 (2000) 23–29.
78. Moreau, W. M., Semiconductor Lithography, Plenum Press, 1988, New York.
79. Bornside, C.W. Macosko and L.E. Scriven, “ J. Imaging Techno., ’’ ,13 (1978) 222.
80. Daughton, W.J﹒ and Givens, F. L., J. Electrochem., Soc., 129 (1982) 173-179.
81. Givens,F.L. and W.J.Daughton, J.Electrochem. Soc., 126(2) (1979) 269.
82. J.D. Mackenzie E.P. Bescher J. Sol-Gel Science and Technology , 27 (2003) 7–14.
83. A.G. Emslie, F.T. Bonner and L.G. Peak, “J. Appl. Phys.,” 29(5) (1958) 858.
84. L.E. Scricven, in “ Better Ceramics Through Chemistry (Ⅲ), ” (eds.) C.J. Brinker, D.E.Clark and D.R. Ulrich, MRS, 121 (1988) 717.
85. D. Meyerhofer, J. Appl. Phys. 49 (1978) 3993.
86. S.F. Manaco, J. Opt. Soc. Am. 51 (1961) 280.
87. H. A. Macleod, Thin Film Optical Filter, 2nd ed., McGraw-Hill, New York, 1985.
88. Schaffer, “The Science and Design of Engineering Materials” McGraw-Hill, 1999.
89. Dinguo Chen, Solar Energy Materials & Solar Cells, 68 (2001) 313-336.
90. 朱文彬,吳平耀,工業材料,第195期,2003。
91. 吳平耀,工業材料,第206期,2004。
92. George Socrates Infrared and Raman Characteristic Group Frequencies Third Edition 2001。
93. Zhi Hua and Kun Yuan Qiu, Polymer, 38, 521-526 (1997).
94. Yang-Yen Yu, Ching-Yi Chen, and Wen-Chang Chen, Polymer, 44, 593-601 (2003).
95. Yang-Yen Yu, and Wen-Chang Chen, Materials Chemistry and Physics, 82 (2003) 388-395.
96. S. Music*, M. Gotic, M. Ivanda, S. Popovic, A. Turkovic,
R. Trojko, A. Sekulic, K. Furic, “Chemical and microstructural
Properties of TiO2 synthesized by sol-gel procedure”, Materials
Science and Engineering, B47, (1997) 33-40
97. A. Leaustic, F. Babonneau, J. Livage, Chem. Mater. 1 (1989) 240
98. 葉倍宏, “薄膜光學-電腦輔助模擬與分析,” p.57 (1992)
99. D. W. Schafer, J. P. Wilcoxon, K. D. Keefer, B. C. Bunker, R. K. Pearson, I. M. Thomas, and D. E. Miller, AIP Conf. Proc., 154 (1987) 63.
100. 陳姿秀、陳永志,以溶膠-凝膠法製備有機-無機混成材料,強塑廣用新知,88,2001.
101. L-Davies, B.; Samoc, M. and Woodruff, M., Chem. Mater., 8 (1996) 2586.
102. 張立德、張勁燕,奈米材料,五南圖書出版公司,2002。
103. 詹勳昌,UV光聚合法製備壓克力-二氧化矽混成光學薄膜及其特性研究,國立台灣大學碩士論文,2001。
104. 林建中,高分子材料性質與應用,高立出版社,1998。



論文使用權限
  • 同意紙本無償授權給館內讀者為學術之目的重製使用,於2015-06-28公開。
  • 同意授權瀏覽/列印電子全文服務,於2015-06-28起公開。


  • 若您有任何疑問,請與我們聯絡!
    圖書館: 請來電 (02)2621-5656 轉 2281 或 來信