本實驗主要針對LL-AFS、LL-AYS與LL-AFVS等有機化合物與熱帶念珠菌(Candida tropicalis)進行抗菌活性測試，並利用原子力顯微術量測經過有機化合物LL-AFS、LL-AYS與LL-AFVS處理前後之表面形貌與生物力學結構變化。
進行抑制熱帶念珠菌濃度測試發現，分別以LL-AFS、LL-AYS與LL-AFVS濃度300 ppm均可完全抑制熱帶念珠菌生長。故選擇濃度300 ppm之LL-AFS、LL-AYS與LL-AFVS與Candida念珠菌進行抑制時效測試。結果發現反應10分鐘即可有效抑制熱帶念珠菌生長。並探討有機化合物LL-AFS、LL-AYS與LL-AFVS處理前後之表面奈米結構與生物奈米力學變化，本篇研究選擇以原子力顯微術進行表面奈米結構與生物奈米力學分析。結果發現，熱帶念珠菌未經化合物表面結構處理之單一菌株長為2.67±0.54 μm、寬為1.08±0.32 μm、高度為0.30±0.04 μm；經化合物LL-AYS濃度300 ppm表面處理後，量測單一菌株長為2.07±0.67 μm、寬為0.94±0.23 μm、高度為0.53±0.14 μm。力學分析未經化合物處理前表面軟硬度為101.21±11.01 pN/nm；黏滯力為5.03±2.61 nN。經化合物LL-AYS(300 ppm)處理後，其表面軟硬度為117.24±10.53 pN/nm；黏滯力為17.66±1.89 nN。

Candida tropicalis was treated with several organic compounds, and the differences of structural conformations and surface forces on Candida tropicalis   were measured by atomic force microscope technology. Susceptibility to the minimal inhibitory concentration was investigated with the population analysis technique in the C. tropicalis strain.
   The experimental results showed that C. tropicalis were inhibited by organic compounds of LL-AFS, LL-AYS and LL-AFVS which their testing concentration were approximately equal or higher than 300 ppm of respective minimal inhibitory concentration(MIC).
 According to the susceptibility of LL-AFS, LL-AYS and LL-AFVS, there was a homogeneity of data with respective time inhibit curves showing a clear bactericidal effect after 10 minutes of exposure. Furthermore, a new drug will be designed by these results, susceptibility, respective time and force analysis.

目   錄
中文摘要	Ⅰ
英文摘要	Ⅲ
目錄	IV
圖示目錄	VI
附表目錄	VIII


第一章	緒論	1
1-1前言	1
1-2念珠菌	2
1-2-1構造及功能介紹	3
1-2-2感染途徑及臨床診斷	4
1-2-3預防及治療	6
1-3原子力顯微技術	8
1-3-1原子力顯微鏡基本架構	11
1-3-2呈像原理及量測模式	15
1-3-3力-距離曲線	24
第二章 實驗材料與方法	27
2-1實驗材料	27
2-1-1儀器	27
2-1-2藥品	29
2-2藥品製備	29
2-3生物樣品前處理	30
2-3-1 Candida tropicalis　培養流程	31
2-3-2總菌數定量法	33
2-4生物固定化技術	36
2-4-1基材固定化方法	36
2-4-2 Candida tropicalis　固定化	37
2-5原子力顯微術流程	38
2-5-1探針選用及彈性係數校正	38
2-5-2比例常數(Sensitivity)校正	40
2-5-3表面形貌量測	41
2-5-4生物力學實作	42
第三章　結果討論	43
3-1抗菌活性探討	43
3-3奈米結構分析	84
第四章 結論	89
參考文獻	91


圖 示 目 錄
圖 1 懸吊式基本架構圖 ................................................................................... 12
圖 2底置式基本架構 ........................................................................................ 13
圖 3 原子力顯微術成像原理示意圖 ............................................................... 16
圖 4 原子間距離與位能關係圖 ....................................................................... 18
圖 5接觸式掃描示意圖 .................................................................................... 20
圖 6 非接觸式掃描示意圖 ............................................................................... 22
圖 7敲擊式掃描示意圖 .................................................................................... 23
圖 8 力—距離曲線關係圖 ............................................................................... 24
圖 9 SPA 300HV 原子力顯微鏡 ....................................................................... 27
圖 10 80×80μm2壓電掃描頭 ............................................................................. 28
圖 11 C. tropicalis生長曲線圖 ....................................................................... 32
圖 12 矩形懸臂樑尺寸關係圖。 ..................................................................... 39
圖 13 三角形懸臂樑尺寸關係圖。 ................................................................. 39
圖 14 檢體B5化合物LL-AFS(300 ppm)抑制時間圖 ................................... 78
圖 15 檢體B5經化合物LL-AYS(300 ppm)抑制時間圖 ............................... 79
圖 16 檢體B5經化合物LL-AFVS(300 ppm)抑制時間圖 ............................ 79
圖 17 C. tropicalis未經有機化合物處理前軟硬度分布圖 ............................. 80
圖 18 C. tropicalis未經有機化合物處理前黏滯力分布圖 ............................. 80
圖 19 C. tropicalis經化合物LL-AFS處理後軟硬度分布圖 .......................... 81
圖 20 C. tropicalis經化合物LL-AFS處理後黏滯力分布圖 .......................... 81
圖 21 C. tropicalis經化合物LL-AYS處理後軟硬度分布圖 .......................... 82
圖 22 C. tropicalis經化合物LL-AYS處理後黏滯力分布圖 .......................... 82
圖 23 C. tropicalis經化合物LL-AFVS處理後軟硬度分布圖 ....................... 83
圖 24 C. tropicalis經化合物LL-AFVS處理後黏滯力分布圖 ....................... 83
圖 25 (a) 以AFM掃描C. tropicalis影像圖(20 x 20 μm) .............................. 84
圖 26 化合物處理前影像a. Height mode, b. 3D image .................................. 85
圖 27化合物LL-AFS處理後影像a. Height mode, b. 3D image ................... 86
圖 28化合物LL-AYS處理後影像a. Height mode, b. 3D image ................... 87
圖 29化合物LL-AFVS處理後影像a. Height mode, b. 3D image ................. 88
圖 30 八種化合物(300 ppm)與Candida tropicalis反應之結果 .................... 89


附 表 目 錄
表 1 五種主要顯微鏡量測功能比較表 ........................................................... 10
表 2八種化合物對不同檢體感作對照表 ........................................................ 43
表 3 以不同濃度VirusBom化合物對序列稀釋檢體A之感染操作試驗 .... 45
表 4以不同濃度LL-ABO化合物對序列稀釋檢體A之感染操作試驗 ....... 46
表 5以不同濃度LL-ABS化合物對序列稀釋檢體A之感染操作試驗 ....... 47
表 6以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B1之感染操作試驗 ...... 49
表 7 以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B2之感染操作試驗 ..... 50
表 8以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B3之感染操作試驗 ...... 51
表 9以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B4之感染操作試驗 ...... 52
表 10以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B5之感染操作試驗 .... 53
表 11以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B6之感染操作試驗 .... 54
表 12以不同濃度LL-AFS化合物對序列稀釋檢體B7之感染操作試驗 .... 55
表 13 以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B1之感染操作試驗 ... 57
表 14以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B2之感染操作試驗 .... 58
表 15以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B3之感染操作試驗 .... 59
表 16 以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B4之感染操作試驗 ... 60
表 17以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B5之感染操作試驗 .... 61
表 18 以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B6之感染操作試驗 ... 62
表 19以不同濃度LL-AYS化合物對序列稀釋檢體B7之感染操作試驗 .... 63
表 20 以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B1之感染操作試驗 65
表 21 以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B2之感染操作試驗 66
表 22以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B3之感染操作試驗 . 67
表 23 以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B4之感染操作試驗 68
表 24 以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B5之感染操作試驗 69
表 25 以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B6之感染操作試驗 70
表 26以不同濃度LL-AFVS化合物對序列稀釋檢體B7之感染操作試驗 . 71
表 27 以不同濃度LL-AFO化合物對序列稀釋檢體B1之感染操作試驗 .. 74
表 28 以不同濃度LL-AFO化合物對序列稀釋檢體B2之感染操作試驗 .. 75
表 29 以不同濃度LL-AFVL化合物對序列稀釋檢體B5之感染操作試驗 77

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