淡江大學覺生紀念圖書館 (TKU Library)
進階搜尋


下載電子全文限經由淡江IP使用) 
系統識別號 U0002-0608200723525500
中文論文名稱 溶膠凝膠法製備紫外光硬化型抗眩鍍膜
英文論文名稱 Preparation of UV-curable antiglare coatings by sol-gel process
校院名稱 淡江大學
系所名稱(中) 化學工程與材料工程學系碩士班
系所名稱(英) Department of Chemical and Materials Engineering
學年度 95
學期 2
出版年 96
研究生中文姓名 陳建銘
研究生英文姓名 Chien-Ming Chen
學號 694361519
學位類別 碩士
語文別 中文
口試日期 2007-07-26
論文頁數 146頁
口試委員 指導教授-鄭廖平
委員-陳慶鐘
委員-陳信龍
中文關鍵字 抗眩鍍膜  溶膠凝膠製程  有機無機混成  二氧化矽 
英文關鍵字 antiglare coatings  sol-gel process  organic-inorganic hybrid  silica 
學科別分類
中文摘要 本研究是經由溶膠凝膠製程,將無機單體四乙氧基矽烷(TEOS)先行水解、縮合反應成為二氧化矽,接著分別加入偶合劑三異丙基矽基丙烯酸酯(MSMA)、氟化矽氧烷(13F)、對二氧化矽微粒進行表面改質;之後再導入交聯劑DPHA加以強化合成出奈米混成塗料。
實驗中調整反應組成物(TEOS、HCl、DPHA、MSMA)和反應條件(時間)彼此間的反應關係作分析,探討反應物添加量對混成材料的光學、形態學、物性之影響,利用粒徑分析儀,TEM觀察粒徑大小及分佈、利用FESEM,SEM,α-step觀察表面形態學,,而其化學分析部份,利用FTIR,EDAX檢測其化學結構及元素分析。
混成材料的性質分析方面,利用TGA進行熱性質分析,鑑定所添加之比例含量,以Gloss Meter,Haze meter量測其光澤度,穿透度,霧度,清晰度;最後並測試混成塗膜材料之硬度、密著性。
實驗結果顯示,隨著MSMA的增加,粒子聚集情形降低,顆粒分佈均勻,在混成材料方面,隨著DPHA的添加,表面光澤度、清晰度上升,霧度下降,硬度提升,藉由MSMA與DPHA兩者相互調整,使硬度達到5~6H,霧度、光澤度、清晰度等光學性質達到商用級抗眩膜的條件。
英文摘要 In this research, we used a sol-gel process to prepare UV-curable antiglare coatings. First the inorganic monomer tetraethoxylsilane (TEOS) was formed into colloidal silica by hydrolysis and condensation reactions. Then, added the couple agent 3-(trimethoxysilyl) propyl methacrylate (MSMA) and surfactant fluoroalkylsilane (13F) to modify the colloidal silica. Finally, organic monomer dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) were added to form hybrid material.
We controlled the composition of reactants (TEOS, HCl, DPHA, MSMA) and reaction time to study their relations and their effects on optical characteristics, morphology and physical property of the formed coatings. The particle size of silica and modified silica were measured by TEM and light scattering. The surface morphologies of the films were observed by FESEM, SEM, and α-step. FTIR and EDAX were employed to investigate the chemical bondings in the coatings.
TGA were employed to investigated the effect of silica content on the thermal property of the hybrid materials. In addition, the optical properties, such as gloss, haze, clarity, and total transmittance, and mechanical properties, such as hardness, and adhesion of the coatings were examined.
The experimental results show that with the increase of MSMA, the gathering of particals were reduced, and particle were founed to distribute evenly in the sol. for hybrid materials, with addition of DPHA, the gloss, clarity, and hardness increased and the haze decreased. By adjusting the MSMA and DPHA contents, hardness of the AG coatings can reach up to 5-6H, haze, gloss, clarity, etc. reach the commercial standards.
論文目次 總目錄
中文摘要 Ⅰ
英文摘要 Ⅲ
總目錄 Ⅴ
圖目錄 Ⅶ
表目錄 ⅩⅡ
第一章 序論 1
1-1 前言 1
1-2 研究動機 5
1-3 研究目標 7
第二章 理論與文獻回顧 8
2-1 奈米材料介紹 8
2-1.1奈米材料的發展現況與未來趨勢 8
2-1.2奈米粒子主要的基本性質 10
2-1.3奈米技術 12
2-1.4奈米二氧化矽之應用 13
2-2 有機無機混成材料 16
2-2.1二氧化矽的性質與應用 18
2-2.2溶膠凝膠法製備二氧化矽 19
2-2.3溶膠凝交反應機制理論 20
2-2.4二氧化矽的成核及成長機制 27
2-2.5製備參數對奈米二氧化矽之影響 28
2-3 紫外光硬化技術 34
2-3.1光化學反應 35
2-3.2光硬化反應之變因 37
2-4 LCD面板光學膜簡介與原理 39
2-4.1 LCD的產業動向(92~94) 40
2-4.2 LCD面板光學膜簡介與原理 41
2-5 眩光的原理與文獻整理(72~86) 43
2-5.1眩光及眩光產生之簡介 43
2-5.2降低反射光、眩光的文獻 44
2-5.3抗眩光設計重點 50
第三章 實驗方法與分析設備 53
3-1 實驗藥品 53
3-2 實驗儀器 55
3-3 實驗設備 58
3-3.1噴塗裝置介紹 58
3-3.2噴塗裝置 60
3-4 實驗流程與步驟 61
3-4.1實驗步驟說明 61
3-4.2實驗流程示意圖 63
3-5 物化性分析與鑑定 68
3-5.1結構之鑑定 68
3-5.2熱性質分析 68
3-5.3薄膜表面之型態鑑定與元素分析 68
3-5.4 奈米形態學與奈米顆粒之鑑定 69
3-5.5光學性質測試 70
3-5.6 硬度與密著性之測試 70
第四章 結果與討論 72
4-1 反應機制探討 72
4-2 傅氏紅外線吸收光譜(FTIR)之結構鑑定與分析 74
4-2.1 二氧化矽與MSMA之反應性分析 74
4-2.2 TEOS添加比例之反應性分析 75
4-3 熱重損失分析 (TGA) 81
4-4 奈米形態學與奈米顆粒之鑑定 85
4-4.1 膠體溶液之TEM觀測 85
4-4.2粒徑分析 89
4-5 薄膜表面之形態鑑定與元素分析 92
4-5.1 薄膜表面形態鑑定之SEM觀測 92
4-5.2 薄膜表面形態鑑定之α-step觀測 103
4-5.3 薄膜表面元素分析之EDAX觀測 113
4-6 光學性質測試 118
4-7 硬度與密著性之測試 136
第五章 結論 139
第六章 參考文獻 140





圖目錄
圖1-1奈米技術的重要性 2
圖1-2三種有機-無機材料混成之類型 4
圖1-3各種光學膜在液晶顯示器之應用 6
圖1-4抗眩原理示意圖 6
圖2-1人類社會的發展階段 8
圖2-2奈米顆粒粉體製程技術 9
圖2-3奈米粉體 15
圖2-4奈米對產業的影響 15
圖2-5二氧化矽的結構 20
圖2-6溶膠-凝膠反應程序 22
圖2-7不同pH值的水解縮合情形 24
圖2-8核團半徑改變對自由能的影響 26
圖2-9二氧化矽成核、成長示意圖 28
圖2-10二氧化矽成長型態圖 28
圖2-11二氧化矽在不同濃度pH值下之聚合情況 30
圖2-12對粒子穩定程度的影響pH值 31
圖2-13二氧化矽成核、成長示意圖 33
圖2-14面板光學膜產業結構圖 39
圖2-15全球顯示器產值預測 40
圖2-16 LCD結構圖 41
圖2-17液晶顯示器結構示意圖 42
圖2-18 Anti-glare示意圖 45
圖2-19 Anti-glare and anti-reflection layer 45
圖2-20 Anti-glare表面型態 46
圖2-21 Anti-glare and anti-reflection layer 48
圖2-22眩光的產生與抗昡的原理 50
圖3-1影響塗裝效率的因素 60
圖3-2實驗噴槍之型錄 60
圖3-3第一階段反應流程圖 63
圖3-4第二階段反應流程圖 63
圖3-5第三階段反應流程圖 63
圖3-6混成材料製備及性質檢測流程圖 64
圖3-7鉛筆硬度之測試法 71
圖3-7 鉛筆硬度之測試法 71
圖3-8密著百格測試標準圖 71
圖4-1 第一階段反應機 72
圖4-2 第二階段反應機構 73
圖4-3 第三階段反應機構 73
圖4-4 TEOS與溶劑水之FTIR光譜圖 75
圖4-5 TEOS水解縮合反應FTIR光譜圖圖 76
圖4-6 MSMA與13F之FTIR光譜圖 76
圖4-7 Collidal Silica與MTSiO2/Collidal Silica/13F之FTIR光譜圖 77
圖4-8不同TEOS添加量之FTIR光譜圖 77
圖4-9 MSMA:TEOS=1:4.5(MT1)之TGA圖 82
圖4-10 MSMA:TEOS=1:6.95(MT2)之TGA圖 82
圖4-11 MSMA:TEOS=1:11.9(MT3)之TGA圖 83
圖4-12 MSMA:TEOS=1:26.7(MT4)之TGA圖 83
圖4-13 TEOS添加量的改變之TGA圖 84
圖4-14 Colloidal silica之TEM影像 86
圖4-15 MTSiO2/Colloidal silica(MT1)之TEM影像 86
圖4-16 MTSiO2/Colloidal silica(MT2)之TEM影像 87
圖4-17 MTSiO2/Colloidal silica(MT3)之TEM影像 87
圖4-18 MTSiO2/Colloidal silica(MT4)之TEM影像 88
圖4-19 Colloidal silica溶膠粒徑大小及其分布 89
圖4-20 MTSiO2/Colloidal silica溶膠粒徑大小及其分布 90
圖4-21 MTSiO2/Colloidal silica溶膠粒徑大小及其分布 90
圖4-22 MTSiO2/Colloidal silica溶膠粒徑大小及其分布 91
圖4-23 MTSiO2/Colloidal silica溶膠粒徑大小及其分布 91
圖4-24 MT1D0SEM 94
圖4-25 MT1D1SEM 94
圖4-26 MT1D2SEM 94
圖4-27 MT1D3SEM 94
圖4-28 MT1D4SEM 95
圖4-29 MT1D5SEM 95
圖4-30 MT1D6SEM 95
圖4-31 MT1D7SEM 95
圖4-32 MT2D0SEM 96
圖4-33 MT2D1SEM 96
圖4-34 MT2D2SEM 96
圖4-35 MT2D3SEM 96
圖4-36 MT2D4SEM 97
圖4-37 MT2D5SEM 97
圖4-38 MT2D6SEM 97
圖4-39 MT2D7SEM 97
圖4-40 MT3D0SEM 98
圖4-41 MT3D1SEM 98
圖4-42 MT3D2SEM 98
圖4-43 MT3D3SEM 98
圖4-44 MT3D4SEM 99
圖4-45 MT3D5SEM 99
圖4-46 MT3D6SEM 99
圖4-47 MT3D7SEM 99
圖4-48 MT4D0SEM 100
圖4-49 MT4D1SEM 100
圖4-50 MT4D2SEM 100
圖4-51 MT4D3SEM 100
圖4-52 MT4D4SEM 101
圖4-53 MT4D5SEM 101
圖4-54 MT4D6SEM 101
圖4-55 MT4D7SEM 101
圖4-56 MT1D7-HSEM 102
圖4-57 MT2D7-HSEM 102
圖4-58 MT3D7-HSEM 102
圖4-59 MT4D7-HSEM 102
圖4-60 MT1D0α-step 104
圖4-61 MT1D1α-step 104
圖4-62 MT1D2α-step 104
圖4-63 MT1D3α-step 104
圖4-64 MT1D4α-step 105
圖4-65 MT1D5α-step 105
圖4-66 MT1D6α-step 105
圖4-67 MT1D7α-step 105
圖4-68 MT2D0α-step 106
圖4-69 MT2D1α-step 106
圖4-70 MT2D2α-step 106
圖4-71 MT2D3α-step 106
圖4-72 MT2D4α-step 107
圖4-73 MT2D5α-step 107
圖4-74 MT2D6α-step 107
圖4-75 MT2D7α-step 107
圖4-76 MT3D0α-step 108
圖4-77 MT3D1α-step 108
圖4-78 MT3D2α-step 108
圖4-79 MT3D3α-step 108
圖4-80 MT3D4α-step 109
圖4-81 MT3D5α-step 109
圖4-82 MT3D6α-step 109
圖4-83 MT3D7α-step 109
圖4-84 MT4D0α-step 110
圖4-85 MT4D1α-step 110
圖4-86 MT4D2α-step 110
圖4-87 MT4D3α-step 110
圖4-88 MT4D4α-step 111
圖4-89 MT4D5α-step 111
圖4-90 MT4D6α-step 111
圖4-91 MT4D7α-step 111
圖4-92 MT1D7-Hα-step 112
圖4-93 MT2D7-Hα-step 112
圖4-94 MT3D7-Hα-step 112
圖4-95 MT4D7-Hα-step 112
圖4-96 MT1D0EDAX 114
圖4-97 MT2D0EDAX 115
圖4-98 MT3D0EDAX 116
圖4-99 MT4D0EDAX 117
圖4-100 MT1之光學比較圖 119
圖4-101 MT1之光學比較圖 120
圖4-102 MT1之光學比較圖 120
圖4-103 MT2之光學比較圖 121
圖4-104 MT2之光學比較圖 122
圖4-105 MT2之光學比較圖 122
圖4-106 MT3之光學比較圖 123
圖4-107 MT3之光學比較圖 124
圖4-108 MT3之光學比較圖 124
圖4-109 MT4之光學比較圖 125
圖4-110 MT4之光學比較圖 126
圖4-111 MT4之光學比較圖 126
圖4-112 MT1-H之光學比較圖 128
圖4-113 MT1-H之光學比較圖 129
圖4-114 MT1-H之光學比較圖 129
圖4-115 MT2-H之光學比較圖 130
圖4-116 MT2-H之光學比較圖 131
圖4-117 MT2-H之光學比較圖 131
圖4-118 MT3-H之光學比較圖 132
圖4-119 MT3-H之光學比較圖 133
圖4-120 MT3-H之光學比較圖 133
圖4-121 MT4-H之光學比較圖 134
圖4-122 MT4-H之光學比較圖 135
圖4-123 MT4-H之光學比較圖 135
圖4-124氟烷類介面活性劑改質表面 136










表目錄
表1-1 奈米材料和技術的應用前景 1
表2-1 有機材料無機材料兩者物性之比較 17
表2-2 單體之官能度和分子量對硬化膜性質影響 36
表2-3 偏光膜主要廠商市場佔有率 42
表2-4 偏光膜之世界市場規模 43
表2-5 antiglare量測數據整理 49
表2-6 偏光板的抗昡規格 51
表2-7 觸控面板的抗昡規格 51
表2-8 顯示特性與抗昡特性的關係 51
表2-9 市面販售AG抗昡規格比較表 52
表3-1 第一階段反應配方表 65
表3-2 第二階段與第三階段反應配方表 65
表3-3 塗料配方 66
表3-4 塗料配方 67
表4-1 碳氫氧類之特性吸收峰 78
表4-2 Silica之特性吸收峰 79
表4-3 矽氧烷類之特性吸收峰 79
表4-4 MT1~MT4 TGA數值 84
表4-5 MT1-光學數值 119
表4-6 MT2-光學數值 121
表4-7 MT3-光學數值 123
表4-8 MT4-光學數值 125
表4-9 MT1-H-光學數值 128
表4-10 MT2-H-光學數值 130
表4-11 MT3-H-光學數值 132
表4-12 MT4-H-光學數值 134
表4-13 MT1密著硬度表 137
表4-14 MT2密著硬度表 137
表4-15 MT3密著硬度表 138
表4-16 MT4密著硬度表 138
參考文獻 1. 張芳誠、奈米技術於表面改質之應用、工研院、環安中心。
2. 陳文源. “奈米技術”將是新產業革命. 技術與工程 2002年6月
144-150
3. H-H Huang, B. Orler, G. L. Wilkes, Macromolecules, 20, 1322 (1987).
4. C. J. T. Landry, B. K. Coltrain, M. R. Landry, J. J. Fitzgerald, V. K. Long, Macromolecules, 26, 3702-3712 (1993).
5. M. Motomatsu, T. Takahashi, H-Y Nie, W, Mizutani, H Tokumoto, Polymer, 38, 177 (1997).
6. K. G. Sharp, Adv. Mater., 15, 1243-1248 (1998).
7. H. Schmit in Sol-Gel Optics, edited by L. C. Klein (Kluwer Academic Publisher, Boston, 1994) pp.451-481.
8. K. J. Shea, D. A. Loy, Chemistry of Materials, 1, 572 (1989).
9. H. Huang, B. Orler, and G. L. Wilkes, Macromolecules 20, 1322 (1987).
10. 林唯芳,材料科技與產業資訊,第七卷第五期,12-15(2000).
11. Y. Chujo and T. Sagusa in Advances in Polymer Science, 100, 12 (Springer, Verlag, Berlin, 1992).
12. K. Y. Qui, J. Polymer Sci.: Part A Polymer Chem., 36, 1607 (1998).
13. J. J. Fitzgerald, C. J. T. Landry, and J. M. Pochan, Macromolecules, 25 , 3715 (1992).
14. E. J. A.Pope, M. Asami, and J. D. Mackemzie, J. Mate. Res., 4, 1018 (1998).
15. C. J. T. Landry, B. K. Coltrain, and B. K. Brardy, Polymer, 33, 1486 (1992).
16. Y. J. Eo, D. J. Kim and B. S. Bae, J. Sol-Gel Sci. and Tech., 13, 409 –413
(1998).
17. J. D. Mackenzie in Hybrid Organic-Inorganic Composites, edited by J. E
18. Y. A. Attia in Sol-Gel Processing and Applications (Plenum, New York, 1994), p18.
19. S. D. Burnside, E. P. Giannelis, J. Polymer Sci.: Part B Polymer Phys., 38, 1595-1604 (2000).
20. Z. Zhu, Y. Yang, J. Yin, Z. Qi, J. Appl. Polym. Sci., 73, 2977-2984 (1999).
21. Z. Ahmad, M. I. Sarwar, J. E. Mark, J. Appl. Polym. Sci., 63, 1345-1352 (1997).
22. M. P. Hogerheide, and T. P. M. Koster J. Sol-Gel Sci. and Tech., 11, 153- 154 (1998).
23. J. D. Mackenzie, Q. Huang, T. Iwamoto, J. Sol-Gel Sci. and Tech., 7, 154 (1996).
24. Y. J. Eo, D. J. Kim and B. S. Bae, J. Sol-Gel Sci. and Tech., 13, 409-413 (1998).
25. 金惟國等,聯合學報,18,(2001).
26. 詹佳樺,魏宏森,陳暉,第二十五屆高分子研討會論文集,(2002)。
27. 陳文章,劉韋志,化工,第46卷第5期 56~59(1999).
28. 余美燕等,工研院技術報告.
29. 黃元品論文,有機/無機溶凝膠高分子混成材料(Ι)納米材料之微結構和形態學特性之研究,中興大學化學系碩士論文.1998年6月.
30. J. Gilberts, A. H. A. Tinnemans, M. P. Hogerheide, T. P. M.Koster, J. Sol-Gel Sci. and Tech., 11, 154 (1998).
31. J. Wen, K. Jordens, G. L. Wilkes, Mat. Res.Soc. Symp. Proc., 435, 207 (1996).
32. L. Matejka, O. Dukh, J. Kolarik, Polymer, 41, 1454-1455 (2000).
33. Y. Wei, D. Jin, G. Wei, D. Yang, J. Xu, J. Appl. Polym. Sci., 70, 1692-1693 (1998).
34. J. D. Mackenzie in Hybrid Organic-Inorganic Composites, edited by J. E. Mark, C. Y-C Lee, P. A. Bianconi (Maple Press, New York, 1995), p226.
35. Y.A.Attia in Sol-Gel Processing and Applications
(Plenum,New York, 1994), p18.
36. J.D.Mackenzie,Q.Huang,T.Iwamoto,J.Sol-Gel Sci. and Tech.,7,154 (1996).
37. D. Li ou, A.B. Seddon, J. Non-Cryst. Solids, 210, 192(1997).精密塗佈技術在平面顯示器光學膜之應用簡介工業材料雜誌211期93年7 月
38. 吳聖威;”奈米級二氧化矽 SiO2 粒子之燒結”,清大化工所碩士論文(2001)。
39. 魏碧玉,賴明雄,賴宏仁;”奈米材料之合成技術”,材料會訊第八卷第四期。
40. 王宏達;”奈米碳管的成長與分析”,成大化工所碩士論文(2001)。
41. 詹耀富;”以柱槽容器浮選法回收二氧化矽奈米微粒之研究”,成大資源工程所碩士論文(2000)。
42. 曾科博;”化學機械研磨用二氧化矽粉體之火焰製程開發”,成大化工所
碩士論文(1999)。
43. 江易錫;”火焰法合成二氧化矽微粉之製程開發”,成大化工所碩士論文(2000)。
44. 韋文誠;”奈米陶瓷粉體之特性及奈米結構應用概況”,化工技術第九卷
第九期。
45. 王宏達;”奈米碳管的成長與分析”,成大化工所碩士論文(2001)。
46. 詹耀富;”以柱槽容器浮選法回收二氧化矽奈米微粒之研究”,成大資源工程所碩士論文(2000)。
47. 韋文誠;”奈米陶瓷粉體之特性及奈米結構應用概況”,化工技術第九卷第九期。
48. Werner Stober;Arthur Fink;Ernst Bohn;Journal of Colloid and Interface Science,1968,26,62-69。

49. F. Schuth;U. Ciesla;S. Schacht;M. Thieme;Q. Huo;G.Stucky;Materials Research Bulletin,1999,34,483-494。
50. J. Spitzmuller;J. Braun;H. Rauscher;R. J. Behm;Surface Science,1998,400,356-366。
51. Mari-Ann Einarsrud;May Britt Kirkedelen;Elin Nilsen;Kell Mortensen;Jon Samseth;Journal of Non-Crystalline Solids,1998,231,10-16。
52. Miceael A. Markowitz;Paul E. Schoen;Paul Kust;Bruce P. Gaber;Colloids and Surfaces A:Physicochemical and Engineering Aspects,1999,150,85-94。
53. Horst Böttcher;Karl-Heinz Kallies;Helfried Haufe;Jürgen Seidel;Advanced Materials,1999,2,138-141。
54. B. M. De Witte;D. Commers;J. B. Uytterhoeven;Journal of Non-Crystalline Solids,1996,202,35-41。
55. Laczka;K. Cholewa-Kowalska;M. Kogut;Journal of Non-Crystalline Solids,2001,287,10-14。
56. Shoichiro Yano;Keisuke Iwata;Kimio Kurita;Materials
Science and Engineering C,1998,6,75-90。
57. Yen Wei;Danliang Jin;Chuncai Yang;Michael C. Kels;Kun-Yuan
Qiu;Materials Scinece and Engineering C,1998,6,91-98。
58. Eric Bescher;John D. Mackenzie;Materials Science and Engineering C,1998,6,145-154。
59. 巫真瑋;”共價鍵結之Kenyaite / 聚亞醯胺奈米複合材料之合成與物性”,交大材料所碩士論文(2001)


60. 韋文誠;”奈米陶瓷粉體之特性及奈米結構應用概況”,化工技術
第九卷第九期。
61. ”游離二氧化矽之物理化學性質研究”,行政院勞工委員會勞工安
全衛生研究所(1996)。
62. L. Mascia;梁定澎譯註;”塑膠添加劑”,復漢出版社印行。
63. 陳琰編著;瞿寧若校正;”塑膠添加劑”,高立圖書有限公司。
64. 張志純譯;”玻璃纖維及超級塑剛大全”,徐氏基金會出版。
65. 張志純編著;”玻璃纖維補強塑膠之應用”,徐氏基金會出版。
66. Hansen F.K.,J.Ugelstad;J.Polym.Sci.,Polym. Chem. Ed.,1978,6,1953。
67. R. K. Iler, The colloid chemical of silica and silicates, Cornell University Press, Ithaca, N.Y. (1955).
68. K. S. Kim, J. K. Kim, W. S. Kim, Ceram. Inter. 28 (2002) 187.
69. K. D. Kim, H. T. Kim, J. Amer. Ceram. Soc., 85 (2002) 1107.
70. R. K. Iler, The chemical of silica, Wiley-Inter Science (1979).
71. T. Matdoukas, E. Gulari, J. Col. Inter. Sci., 124 (1988) 252.
72. E. R.DEVries,Flatting compositions,U.S patent 3865899.
73. J.D.McDole,Television filter,U.S patent 5852513.
74. S.Shoshi,S. Watanabe,Shunpei,W.Miyazaki”Anti-glare hard coat film and process for producing the film”U.S patent 5998013.
75. Y.Onozawa,S.Maruoka,S.Shoshi”Very film anti-glare hard coat film”U.S patent 6613426B2.
76. T.Nomura,”Solar battery module”U.S patent 6607936B2.
77. K.Ohishi,C.murata,”Anti-reflection material,polarization film,and production methods therefore”U.S patent 6505942B2.
78. K.Miyazaki,T.Arai”Optical film cotsunageantaining anti-glare layer and image display apparatus using the same”U.S patent 6773122B2.
79. K.Nakamura,N.Matsunaga,”Anti-glare,anti-flection film,polarizing plate and liquid crystal display device”U.S patent 6731363B2.
80. I.Ishii,Y.Sakaguchi,”Organic EL panel and filter for same:U.S patent 6706425B2.
81. S.kawahara,N.Takahashi”Optical film and liquid-crystal display device using the optical film”U.S patent 6970213B2.
82. H.Takahashi,H.Ushida”Anti-glare film,and optical member and liquid crystal display apparatus using the same”U.S patent 6945656B2.
83. D.N.Kaliser,W.D.Jarrent”Fade protector”U.S patent 6905770B2.
84. S.Shoshi,O.Inaoka,Y.Takesako”Anti-glare hard coat film”U.S patent 6896960B2.
85. K.Nakamura,I.Amimori,H.Hokazono,J.Watanabe”Anti-glare and anti-reflection film,polarizing plate,and image display device”U.S patent 6888593B1.
86. M.Saitou,M.Harada,M.Koyama,Y.Kimura,”Transparent hard coat film”U.S patent 6869673B2.
87. 江德海,紫外光固化材料-理論與應用,科學出版社,2001.
88. 劉瑞祥,感光性高分子,復文書局,2002.
89. 張豐志,應用高分子手冊,五南出版社,2003.
90. Bosch, F. Del Monte, J. L. Mateo, and D. Levy, J. Polymer Sci.: Part A, 34 (1996) 3289-3296 .
91. 林唯芳,有機無機奈米材料,塑膠資迅 2001.11(NO.60),P4-P9.
92. 2000年工研院 ITIS 計畫資料。
93. 2001年工研院 ITIS 計畫資料。
94. 平面顯示器技術及未來趨勢,2000中文版:成璟文化事業股份有限公司。
95. LCD/PDP international‘98 併設”液晶Display seminar-98”,1998-Oct.-29., 日本東京, 研討會資料集。
96. LCD/PDP international‘98 併設”液晶Display seminar-98” 1998-Oct.-31., 日本橫濱, 研討會資料集。
97. 月刊FPD Intelligence, 1999-Jan., pp. 51-67.
98. Nitto Denko Corp.,“Film for Liquid Crystal Display”產品目錄。
99. Sumitomo Chemical Co.Ltd.,“Optical Film 產品目錄。
100. 3M公司D-BEF產品目錄。
101. 液晶顯示器‧製造裝置‧材料產業:特別調查, Chap.3,月刊 LCD Intelligence 編集部, VLSI Report 調查, 1998.

論文使用權限
  • 同意紙本無償授權給館內讀者為學術之目的重製使用,於2012-08-09公開。
  • 同意授權瀏覽/列印電子全文服務,於2012-08-09起公開。


  • 若您有任何疑問,請與我們聯絡!
    圖書館: 請來電 (02)2621-5656 轉 2281 或 來信